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事关光刻机！这一新型部件或重塑现有系统 光源效率有望提升10倍

科创板日报 2025-01-07
光刻机
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室正在开发一种拍瓦级大孔径铥（BAT）激光器，该激光器有望将极紫外光刻（EUV）光源效率提升10倍，可能取代现有二氧化碳激光器。这将有助于制造更小、更强大的芯片，并减少半导体生产的能耗。
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新型BAT激光器的开发对光刻机性能有显著提升，预计将提高EUV光源效率并降低能耗，这对半导体行业和光刻机股票概念板块是利好消息。虽然技术还在开发阶段，但其潜在影响较大，可能在未来几年内重塑光刻系统，推动相关公司技术进步和市场竞争力提升。

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